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真空鍍膜系統(tǒng)

離子蒸發(fā)及濺射源

多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度，可調(diào)整弧斑移動速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

ST系列鍍膜機

ST系列鍍膜機系我司標準化產(chǎn)品，滿足大部分實驗室科研需求，豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點：1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高，可達7×10-5Pa，可保證更高的鍍膜純凈度，提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空（7×10-4Pa）時間短，30分鐘左右（充干燥氮氣）。 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度：≤8Pa。

4、整機采用柜式結(jié)構(gòu)，真空鍍膜系統(tǒng)廠家，密封性能好，防塵防水，安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇

真空泵工作時產(chǎn)生的振動對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許，應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。

了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。選擇真空泵時，需要知道氣體成分，針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。

真空泵在其工作壓強下，應能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。

真空設(shè)備對油污染的要求。若設(shè)備嚴格要求無油時，應該選各種無油泵，如：水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達到清潔真空要求。

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